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我国成功研制新型中紫外直接光刻机

发布时间:2019-06-25 18:23:49

导语一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术 研究 所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术,结合光敏玻璃材料,实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工,

一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术 研究 所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术,结合光敏玻璃材料,实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工,能够极大简化工艺流程,将有力促进光敏玻璃微细结构的光刻工艺技术“革命”,目前在国内尚未见有此类产品成功研发的报道。

光刻设备是用于微细结构加工的核心设备,在微电子、生物、医学和光学等领域得到全面应用。由于光刻工艺的限制,原有光刻设备大多是针对光刻胶曝光进行技术研发。而针对玻璃基底的微细结构加工具有特殊性:光敏玻璃光谱敏感特性不同于光刻胶、微细结构深宽比大和完全非接触曝光。近年来,针对玻璃基底的微细加工技术愈发重要,在微流控芯片、微光学元件以及OLED显示屏等新型微细结构的加工中需求迫切,也是国内外光刻设备研发的重要方向之一。因此,光电技术 研究 所微电子专用设备研发团队联合国内外科研机构,开展了汞灯光源、大口径高精度反射镜、中紫外镀膜和间隙测量等技术研发,成功提高了汞灯光源中紫外光谱能量,通过反射式光路结构保证光能利用率和准直性,精密间隙测量和控制技术实现非接触曝光,并进行了光敏玻璃直接光刻实验,实现了玻璃基底高分辨、高深宽比、大面积微细结构的直接光刻工艺。

该设备的成功研制,是光刻设备研发与光刻工艺应用结合的产物,将促进光刻工艺的革命性改进,符合国际光刻设备 研究 发展趋势,也使得我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机。

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